濺射靶材和濺射鍍膜的制造原理

濺射板材是目前二十一世紀(jì)工業(yè)基礎(chǔ)不可或缺的精密合金材料，在很多領(lǐng)域?yàn)R射靶材發(fā)揮著重要的作用，無論是高純度濺射板材、非金屬單質(zhì)靶材、合金靶材、化合物靶材都在各大行業(yè)應(yīng)用廣泛，融入目前科技發(fā)展的最基礎(chǔ)研發(fā)領(lǐng)域，可以說濺射靶材無處不在；

濺射（Sputtering）鍍膜技術(shù)利用離子源產(chǎn)生的離子，在高真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面而形成薄膜材料。被轟擊的固體原料是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。

濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點(diǎn)，一般由靶坯和背板組成。

濺射靶材的分類；

按使用的原材料材質(zhì)不同，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質(zhì)靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，濺射靶材亦已成為目前市場應(yīng)用量最大的PVD鍍膜材料。

濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜是最主流的兩種PVD鍍膜方式，PVD技術(shù)是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一， 用于制備薄膜材料的物質(zhì)被稱為PVD鍍膜材料。經(jīng)過多年發(fā)展，PVD鍍膜技術(shù)被廣泛用于應(yīng)用于電子、光學(xué)、機(jī)械、建筑、材料等領(lǐng)域。