濺射靶材企業(yè)上市及行業(yè)分析

繼江豐電子后，又一家國產濺射靶材企業(yè)福建阿石創(chuàng)新材料股份有限公司今日正式登陸A股深交所創(chuàng)業(yè)板。超大規(guī)模集成電路和顯示面板、太陽能電池等電子材料被美、日跨國公司壟斷的局面的正在得到改善。

招股說明書顯示，阿石創(chuàng)專業(yè)從事各種 PVD 鍍膜材料研發(fā)、生產和銷售，主導產品為濺射靶材和蒸鍍材料兩個系列產品，主要應用于光學光電子產業(yè)，用以制備各種薄膜材料。產品已在平板顯示、光學元器件、節(jié)能玻璃等領域得到廣泛應用，并已研發(fā)出應用于太陽能電池、半導體等領域的多款產品，是國內 PVD 鍍膜材料行業(yè)產品品種較為齊全、應用領域較為廣泛、工藝技術較為全面的綜合型 PVD 鍍膜材料生產商。

PVD 鍍膜材料主要用以制備各種具有特定功能的薄膜材料，應用領域包括平板顯示、半導體、太陽能電池、光磁記錄媒體、光學元器件、節(jié)能玻璃、LED、 工具改性、高檔裝飾用品等。

薄膜材料制備技術主要包括物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。PVD 技術是制備薄膜材料的主要技術之一，指在真空條件下采用物理方法， 將某種物質表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或 等離子體）過程，在基板材料表面沉積具有某種特殊功能的薄膜材料的技術。在 PVD 技術下，用于制備薄膜材料的物質，統(tǒng)稱為 PVD 鍍膜材料。經過多年發(fā)展， PVD 技術已成為目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜。

濺射鍍膜是指利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速 度的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面 的原子離開固體并沉積在基板材料表面的技術。被轟擊的固體是用濺射法沉積薄 膜材料的原材料，稱為濺射靶材。

濺射鍍膜基本原理

2016年12月，工信部、發(fā)改委、財政部、科技部聯(lián)合發(fā)布《新材料產業(yè)發(fā)展指南》，部分新一代信息技術產業(yè)用材料被列入需突破的重點應用領域急需的新材料，并要求加強大尺寸硅材料、大尺寸碳化硅單晶、高純金屬及合金濺射靶材生產技術研發(fā)，加快高純特種電子氣體研發(fā)及產業(yè)化，解決極大規(guī)模集成電路材料制約。

2017年6月，工信部發(fā)布《重點新材料首批次應用示范指導目錄(2017年版)》，提出了平板顯示用ITO靶材、平板顯示用高純鉬靶材等重點新材料的應用領域。

 濺射靶材生產工藝流程

 招股說明書顯示，阿石創(chuàng)濺射靶材可分為金屬/非金屬單質靶材、合金靶材、化合物靶材等。

逐鹿濺射靶材市場

招股說明書顯示，濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均 勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優(yōu)點， 已成為制備薄膜材料的主要技術之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應 用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應用量最大的 PVD 鍍膜材料。

招股說明書顯示，根據中國電子材料行業(yè)協(xié)會數據，2016年全球高純?yōu)R射靶材市場規(guī)模約為 113.6 億美元，其中平板顯示（含觸控屏）用靶材為 38.1 億美元、半導體用靶材 11.9 億美元、太陽能電池用靶材 23.4 億美元、記錄媒體靶材 33.5 億美元。到2019 年，全球高純?yōu)R射靶材市場規(guī)模將超過 163 億美元，年復合增長率達 13%。

 招股說明書顯示，長期以來全球 PVD 鍍膜材料研制和生產主要集中于美國、日本及德國等國家的少數公司，產業(yè)集中度較高。經過幾十年的技術積淀，這些國外廠商憑借其雄厚的技術力量、精細的生產控制和過硬的產品質量居于全球高端 PVD 鍍膜材料市場的主導地位。受到發(fā)展歷史和技術限制的影響，PVD 鍍膜材料行業(yè)在我國起步較晚，目前仍屬于一個較新的行業(yè)。與國際知名企業(yè)生產的 PVD 鍍膜材料相比，我國 PVD 鍍膜材料研發(fā)生產技術總體上還存在一定差距，市場影響力相對有限，尤其在平板顯示、半導體、太陽能電池等領域，全球高端 PVD 鍍膜材料市場依然以美國、 日本及德國等國家的 PVD 鍍膜材料生產廠商為主導。但是近幾年我國 PVD 鍍膜材料生產企業(yè)在技術和市場方面都取得了長足的進步，正逐步改變高端 PVD 鍍膜材料長期依賴進口的不利局面。