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ITO氧化銦錫(片)

由于氧化銦/氧化錫(In2O3/SnO2 90/10 WT%)的導(dǎo)電性和光學(xué)透明性,它在薄膜行業(yè)被大量利用。按照90 / 10重量比的化合物熔點約為1800°C,密度為7.14克/毫升。各種ITO化合物的顏色范圍從淺黃色到深綠色或深灰色。它在真空下蒸鍍或濺射,形成透明導(dǎo)電層,用于液晶顯示器和各種光學(xué)涂層的制造。ITO薄膜被創(chuàng)建和應(yīng)用于傳感器和汽車工業(yè)的玻璃涂層。

Indium Tin Oxide (In2O3 SnO2 90  10 wt %) Pieces Evaporation Materials.jpg


材料氧化銦錫 
化學(xué)成分In2O3/SnO2 90/10 wt %
純度3N5-5N
熔點 (°C)1,800


真空蒸鍍是指在真空中通過電流加熱,電子束轟擊加熱和激光加熱等方法,使被蒸材料蒸發(fā)成原子或分子,它們隨即以較大的自由程作直線運動,碰撞基片表面而凝結(jié),形成薄膜。
立承德( NEXTECK )提供各種高質(zhì)量的蒸鍍材料,具有全方位的純度和尺寸,以滿足客戶的需求。我們提供貴金屬以及非貴金屬薄膜材料。廣泛應(yīng)用于汽車、航空航天、醫(yī)學(xué)、平板顯示、磁(光)記錄媒體、鍍膜玻璃、光學(xué)鍍膜、硬質(zhì)膜、裝飾膜等領(lǐng)域。

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